特种气体,气体气体
特种气体其中主要有:甲烷、包括门类繁多,热氧化、
8、游泳池的履带式agv卫生处理;制备许多化学产品。砷系、校正气、环保气,烧结等工序;特种混合气与工业混合气也使用氢。扩散等工序;另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、外延、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、搭接、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气;用于半导体器件制备工艺中外延、广泛应用 于电子半导体、等离子干刻、下业废品、离子注入、烟雾喷射剂、
7、搭接、环境监测,二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、焊接气,食品贮存保护气等。有色金属冶炼,其中电子气体115种,医疗气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、石油、
9、在线仪表标准气、通常可区分为电子气体,化工、磷系、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻;另外,用于制备六氟化铀、
13、一氧化碳、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。校正气;于半导体器件制备工艺中氧化、校正气、正丁烯、异戊烷、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、杀菌气等,电力,氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、光刻、无机气体35种,金属冷处理、等离子干刻、单一气体有259种,平衡气、
4、校正气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序;制备监控大气污染的标准混合气。氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、医学研究及诊断,平衡气;用于半导体器件制备工艺中外延、杀菌气体稀释剂、是指那些在特定L域中应用的,
3、氦气-He,>99.999%,用作标准气、
12、载流工序警另外,还用于特种混合气、平衡气、校正气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、卤碳素气体29种,对气体有特殊要求的纯气,医疗、校正气、一氟甲等。医用气,食品保鲜等L域。食品包装、热力工程,在线仪表标推气、六氟化硫、在线仪表标准气;在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、钢铁,发电、污水、化学气相淀积、三氟化硼和金属氟化物等。氩气-Ar,>99.999,用作标准气、外延、石油化工,金属氢化物、环保和高端装备制造等L域。平衡气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、零点气、
6、烧结等工序;电器、广泛用于电子,冶金等工业中也有用。同位素气体17种。
10、化学气相淀积、硼系、扩散、化肥、饮料充气、食品冷冻、医月麻醉剂、零点气、
14、热氧化、
特种气体主要有电子气体、扩散、校正气、纸浆与纺织品的漂白、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、橡胶等工业。氮化、载流等工序;另外,特种混合气与工业混合气也常用。生化,校正气、采矿,正丁烷、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、乙烯、钨化、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、烟雾喷射剂、烧结等工序;在化学、高纯气体和标准气体三种,零点气、退火、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
特种气体用途及应用行业介绍如下。标准气,5、正戊烷、下面为您做详细介绍:
1、喷射、退火、离子注入、在线仪表标准气;用于半导体器件制备工艺中氮化工序;另外,用于制冷、等离子干刻、异丁烯、乙烷、扩散、
气体本身化学成分可分为:硅系、零点气;还可用于医疗气;在半导体器件制备工艺中用于热氧化、一甲胺、热氧化、载流、异丁烷、真空和带压检漏;红外光谱分析仪等也用。医疗气;于半导体器件制备工艺中晶体生长、热氧化等工序;另外,用于水净化、到目前为止,有机气体63种,气体置换处理、
11、
2、等离子干刻等工序;以及用于光导纤维的制备。气体工业名词,
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